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ALPhANOV双激光断层注入显微镜D-LMS下载
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联系方式
用于双激光故障注入的 D-LMS 显微镜站是一个平台，允许独立聚焦和扫描两个激光点，用于集成电路的评估。双点注射工艺的理想选择，它提供了所有空间和时间的灵活性，可以通过背面分析电路
集成电路评估双激光站(均通过显微镜点)
背面激光故障注入的理想选择
具有高分辨率物镜的1米以下单模激光光斑尺寸
两个激光光斑都具有完全独立的时间和空间调制
通过数百米的硅来观察集成电路路径上的激光点的照相机
高再现性和高分辨率激光光斑位移
包括三个阿尔法诺夫激光模块
光学镜头技术
光电发射套件
热激光刺激套件
通过CE认证的激光外壳完成自动设置
高分辨率目标
单模光纤激光器
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PDM+/PDM+ HP |
PDM4+ and PDM4+ HP |
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脉冲持续时间 |
从1.5纳秒到连续波 |
从1.5纳秒到连续波 |
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峰值功率 |
高达3.2瓦 |
高达10瓦 |
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波长 |
980纳米；1064牛米 |
980纳米；1064牛米 |
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重复率 |
从单发到250兆赫 |
从单发到250兆赫 |
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命令接口 |
TTL/LVTTL /软件& dlls |
TTL/LVTTL /软件& dlls |
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光束质量 |
单模 |
单模 |
InGaAs 红外相机
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Captor |
640x512 µm |
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动态量程 |
140 dB |
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接口 |
USB(包含软件) |
电学
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电压 |
220 V/110 V |
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电流 |
16 A |
