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SUSS MicroOptics通过使用反应离子刻蚀(RIE)将所需的结构转移到基板上,从而在硅片和熔融二氧化硅中以晶圆级制造定制的单片微光学器件。该技术可提供高分辨率和均匀性,并能够合并复杂的形式,例如沟槽,空腔,基座,对准点和识别标记。组件可以镀AR和/或金属化,并以多种格式交付。
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